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工業(yè)CT的基本原理
日期:2025-07-01 19:33
瀏覽次數(shù):680
摘要:
工業(yè)CT
是在射線檢測(cè)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的,其基本原理是當(dāng)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直且能量I0的射線束穿過(guò)被檢物時(shí),根據(jù)各個(gè)透射方向上各體積元的衰減系數(shù)從不同,探測(cè)器接收到的透射能量I也不同。按照一定的圖像重建算法,即可獲得被檢工件截面一薄層無(wú)影像重疊的斷層掃描圖像(圖1),重復(fù)上述過(guò)程又可獲得一個(gè)新的斷層圖像,當(dāng)測(cè)得足夠多的二維斷層圖像就可重建出三維圖像。當(dāng)單能射線束穿過(guò)非均勻物質(zhì)后,其衰減遵從比爾定律: 為已知量,未知量為μ。一幅M×N個(gè)像素組成的圖像,工業(yè)CT必須有M×N個(gè)獨(dú)立的方程才能解出衰減系數(shù)矩陣內(nèi)每一點(diǎn)的μ值。當(dāng)射線從各個(gè)方向透射被檢物體,通過(guò)掃描探測(cè)器可得到MXN個(gè)射線計(jì)數(shù)和值,按照一定的圖像重建算法,即可重建出MXN個(gè)μ值組成的二維CT灰度圖像。
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