工業(yè)CT的基本原理

日期：2025-07-01 19:33

瀏覽次數(shù)：680

摘要：

工業(yè)CT是在射線檢測(cè)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，其基本原理是當(dāng)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直且能量I0的射線束穿過(guò)被檢物時(shí)，根據(jù)各個(gè)透射方向上各體積元的衰減系數(shù)從不同，探測(cè)器接收到的透射能量I也不同。按照一定的圖像重建算法，即可獲得被檢工件截面一薄層無(wú)影像重疊的斷層掃描圖像(圖1），重復(fù)上述過(guò)程又可獲得一個(gè)新的斷層圖像，當(dāng)測(cè)得足夠多的二維斷層圖像就可重建出三維圖像。當(dāng)單能射線束穿過(guò)非均勻物質(zhì)后，其衰減遵從比爾定律：為已知量，未知量為μ。一幅M×N個(gè)像素組成的圖像，工業(yè)CT必須有M×N個(gè)獨(dú)立的方程才能解出衰減系數(shù)矩陣內(nèi)每一點(diǎn)的μ值。當(dāng)射線從各個(gè)方向透射被檢物體，通過(guò)掃描探測(cè)器可得到MXN個(gè)射線計(jì)數(shù)和值，按照一定的圖像重建算法，即可重建出MXN個(gè)μ值組成的二維CT灰度圖像。

下一篇：光學(xué)粗糙度儀的測(cè)量方法
上一篇：復(fù)合式影像測(cè)量?jī)x特點(diǎn)

京公網(wǎng)安備 11011302001472號(hào)